Область применения технологии PVD в машинах для вакуумного нанесения покрытий включает в себя:
1) Металлические материалы, такие как углеродистая сталь, легированная сталь, нержавеющая сталь и титановые сплавы;
2) Твердость поверхности металлических материалов должна быть не менее HV170 или выше.
Преимуществами технологии нанесения вакуумного PVD покрытия являются:
По сравнению с традиционной технологией магнетронного распыления одноцветного-PVD процесс двухцветного PVD более сложен, имеет более сложный процесс и его сложнее производить, но он дает превосходные результаты внешнего вида, поскольку оба цвета имеют поверхностную твердость HV600 или выше. Чтобы добиться двухцветного эффекта с помощью традиционной технологии магнетронного распыления одноцветного-PVD, процесс включает в себя лазерное-травление или шлифование участков, где требуется другой цвет, поверх общего-слоя PVD одного цвета. Недавно обработанные участки могут отображать только естественный цвет металла с твердостью поверхности около HV200 (в то время как твердость поверхности после PVD составляет HV600 или выше).
Недостатками технологии нанесения вакуумного PVD покрытия являются:
1) Процесс более сложен и запутан, чем традиционное монохромное PVD, что усложняет производство;
2) Выход продукции низкий, примерно 65-70% (по сравнению с 85-90% для традиционного монохромного PVD);
3) Цена на 50-60% выше традиционного монохромного ПВД;
4) Из-за влияния процесса и потока производство двухцветного PVD более ограничено и в большей степени зависит от структуры продукта, в то время как традиционное монохромное PVD практически не ограничено. Современное оборудование для нанесения покрытий (с использованием технологии равномерного нагрева, технологии измерения температуры, технологии несбалансированного магнетронного распыления, технологии вспомогательного анода, среднечастотного источника питания и импульсной технологии) в основном состоит из вакуумной камеры, секции сбора вакуума, секции измерения вакуума, секции источника питания, системы ввода технологического газа, секции механической передачи, компонентов измерения нагрева и температуры, источника ионного испарения или распыления и системы водяного охлаждения.
